Ilana etching gbigbẹ nigbagbogbo ni awọn ipinlẹ ipilẹ mẹrin: ṣaaju etching, etching apa kan, etching kan, ati lori etching. Awọn abuda akọkọ jẹ oṣuwọn etching, yiyan, iwọn to ṣe pataki, iṣọkan, ati wiwa aaye ipari.
olusin 1 Ṣaaju ki o to etching
olusin 2 Apa kan etching
olusin 3 O kan etching
olusin 4 Lori etching
(1) Oṣuwọn etching: ijinle tabi sisanra ti ohun elo etched kuro fun akoko ẹyọkan.
olusin 5 Etching oṣuwọn aworan atọka
(2) Yiyan: ipin ti awọn oṣuwọn etching ti awọn ohun elo etching oriṣiriṣi.
olusin 6 Selectivity aworan atọka
(3) Iwọn pataki: iwọn apẹrẹ ni agbegbe kan pato lẹhin ti etching ti pari.
olusin 7 Lominu ni iwọn aworan atọka
(4) Aṣọkan: lati wiwọn isokan ti iwọn iwọn etching pataki (CD), ni gbogbogbo nipasẹ maapu CD kikun, agbekalẹ jẹ: U=(Max-Min)/2*AVG.
olusin 8 Isokan Sikematiki aworan atọka
(5) Wiwa aaye ipari: Lakoko ilana etching, iyipada ti kikankikan ina ni a rii nigbagbogbo. Nigbati kikankikan ina kan ba dide tabi ṣubu ni pataki, etching ti pari lati samisi ipari ipele kan ti etching fiimu kan.
olusin 9 Opin ojuami sikematiki aworan atọka
Ni etching gbigbẹ, gaasi naa ni itara nipasẹ igbohunsafẹfẹ giga (nipataki 13.56 MHz tabi 2.45 GHz). Ni titẹ 1 si 100 Pa, ọna ọfẹ tumọ si jẹ awọn milimita pupọ si ọpọlọpọ awọn centimeters. Awọn oriṣi akọkọ mẹta ti etching gbẹ:
•Etching gbẹ ti ara: onikiakia patikulu ti ara wọ awọn wafer dada
•Kemikali gbẹ etching: gaasi reacts chemically pẹlu awọn wafer dada
•Kemikali ti ara gbẹ etching: ilana etching ti ara pẹlu awọn abuda kemikali
1. Ion tan ina etching
Ion beam etching (Ion Beam Etching) jẹ ilana iṣelọpọ gbigbẹ ti ara ti o nlo agbara argon ion beam ti o ga pẹlu agbara ti o to 1 si 3 keV lati ṣe itanna dada ohun elo naa. Agbara ti ion tan ina mu ki o ni ipa ati ki o yọ ohun elo dada kuro. Ilana etching jẹ anisotropic ninu ọran ti inaro tabi oblique isẹlẹ ion nibiti. Sibẹsibẹ, nitori aini yiyan rẹ, ko si iyatọ ti o han gbangba laarin awọn ohun elo ni awọn ipele oriṣiriṣi. Awọn gaasi ti a ti ipilẹṣẹ ati awọn ohun elo etched ti rẹwẹsi nipasẹ fifa igbale, ṣugbọn niwọn igba ti awọn ọja ifaseyin kii ṣe gaasi, awọn patikulu ti wa ni ipamọ lori wafer tabi awọn odi iyẹwu.
Lati ṣe idiwọ dida awọn patikulu, gaasi keji le ṣe ifilọlẹ sinu iyẹwu naa. Gaasi yii yoo fesi pẹlu awọn ions argon ati ki o fa ilana etching ti ara ati kemikali. Apa kan ti gaasi yoo fesi pẹlu awọn ohun elo dada, sugbon o yoo tun fesi pẹlu awọn didan patikulu lati dagba gaseous byproducts. Fere gbogbo iru awọn ohun elo le jẹ etched nipasẹ ọna yii. Nitori itankalẹ inaro, yiya lori awọn odi inaro jẹ kekere pupọ (anisotropy giga). Bibẹẹkọ, nitori yiyan kekere rẹ ati oṣuwọn etching o lọra, ilana yii kii ṣọwọn lo ni iṣelọpọ semikondokito lọwọlọwọ.
2. Plasma etching
Plasma etching jẹ ilana etching kemikali pipe, ti a tun mọ ni etching gbẹ ti kemikali. Anfani rẹ ni pe ko fa ibajẹ ion si dada wafer. Niwọn igba ti awọn eya ti nṣiṣe lọwọ ninu gaasi etching ni ominira lati gbe ati ilana etching jẹ isotropic, ọna yii dara fun yiyọ gbogbo Layer fiimu kuro (fun apẹẹrẹ, mimọ ẹgbẹ ẹhin lẹhin ifoyina gbona).
Atẹrisi isale isalẹ jẹ iru riakito ti o wọpọ ti a lo fun etching pilasima. Ninu reactor yii, pilasima naa jẹ ipilẹṣẹ nipasẹ ionization ikolu ni aaye ina-igbohunsafẹfẹ giga ti 2.45GHz ati yapa lati wafer.
Ni agbegbe idasilẹ gaasi, ọpọlọpọ awọn patikulu ti wa ni ipilẹṣẹ nitori ipa ati itara, pẹlu awọn ipilẹṣẹ ọfẹ. Awọn ipilẹṣẹ ọfẹ jẹ awọn ọta didoju tabi awọn moleku pẹlu awọn elekitironi ti ko ni ilọlọrun, nitorinaa wọn ṣe ifaseyin gaan. Ninu ilana etching pilasima, diẹ ninu awọn gaasi didoju, gẹgẹbi tetrafluoromethane (CF4), ni a maa n lo nigbagbogbo, eyiti a ṣe sinu agbegbe itusilẹ gaasi lati ṣe agbekalẹ awọn eya ti nṣiṣe lọwọ nipasẹ ionization tabi ibajẹ.
Fun apẹẹrẹ, ninu gaasi CF4, o ti ṣe sinu agbegbe itujade gaasi ati pe o bajẹ sinu awọn radical fluorine (F) ati awọn molecule difluoride carbon (CF2). Bakanna, fluorine (F) le jẹ ibajẹ lati CF4 nipa fifi atẹgun (O2) kun.
2 CF4 + O2 —> 2 COF2 + 2 F2
Molikula fluorine le pin si awọn ọta fluorine ominira meji labẹ agbara ti agbegbe itujade gaasi, ọkọọkan eyiti o jẹ ipilẹṣẹ ọfẹ fluorine. Niwọn igba ti atom fluorine kọọkan ni awọn elekitironi valence meje ati pe o duro lati ṣaṣeyọri iṣeto itanna ti gaasi inert, gbogbo wọn ni ifaseyin pupọ. Ni afikun si didoju fluorine free radicals, yoo gba agbara awọn patikulu bi CF + 4, CF + 3, CF + 2, ati be be lo ni agbegbe idasilẹ gaasi. Lẹhinna, gbogbo awọn patikulu wọnyi ati awọn ipilẹṣẹ ọfẹ ni a ṣe sinu iyẹwu etching nipasẹ tube seramiki.
Awọn patikulu ti o gba agbara le jẹ dina nipasẹ awọn gratings isediwon tabi tunpo ninu ilana ti ṣiṣẹda awọn ohun elo didoju lati ṣakoso ihuwasi wọn ni iyẹwu etching. Awọn ipilẹṣẹ ọfẹ fluorine yoo tun faragba isọdọtun apa kan, ṣugbọn tun nṣiṣe lọwọ lati wọ inu iyẹwu etching, fesi kemikali lori dada wafer ati fa idinku ohun elo. Awọn patikulu didoju miiran ko kopa ninu ilana etching ati pe wọn jẹ run pẹlu awọn ọja ifaseyin.
Awọn apẹẹrẹ ti awọn fiimu tinrin ti o le wa ni finnifinni ni pilasima etching:
• Silikoni: Si + 4F—> SiF4
• Silikoni oloro: SiO2 + 4F—> SiF4 + O2
• Silikoni nitride: Si3N4 + 12F—> 3SiF4 + 2N2
3.Reactive ion etching (RIE)
Ifaseyin ion etching ni a kemikali-ti ara etching ilana ti o le gan deede sakoso yiyan, etching profaili, etching oṣuwọn, uniformity ati repeatability. O le ṣaṣeyọri isotropic ati awọn profaili etching anisotropic ati nitorinaa jẹ ọkan ninu awọn ilana pataki julọ fun kikọ ọpọlọpọ awọn fiimu tinrin ni iṣelọpọ semikondokito.
Lakoko RIE, a gbe wafer sori elekiturodu igbohunsafẹfẹ giga-giga (elekiturodu HF). Nipasẹ ipa ionization, pilasima ti wa ni ipilẹṣẹ ninu eyiti awọn elekitironi ọfẹ ati awọn ions ti o gba agbara daadaa wa. Ti a ba lo foliteji rere si elekiturodu HF, awọn elekitironi ọfẹ kojọpọ lori dada elekiturodu ati pe ko le lọ kuro ni elekiturodu lẹẹkansi nitori isunmọ elekitironi wọn. Nitorina, awọn amọna ti wa ni agbara si -1000V (irẹjẹ foliteji) ki awọn ions ti o lọra ko le tẹle aaye ina ti n yipada ni kiakia si elekiturodu ti o gba agbara ni odi.
Lakoko ion etching (RIE), ti ọna ọfẹ ti awọn ions ba ga, wọn lu dada wafer ni itọsọna ti o fẹrẹẹ. Ni ọna yii, awọn ions onikiakia kọlu ohun elo naa ki o ṣe iṣesi kemikali nipasẹ etching ti ara. Niwọn igba ti awọn odi ẹgbẹ ita ko ni kan, profaili etch jẹ anisotropic ati wiwọ dada jẹ kekere. Sibẹsibẹ, yiyan ko ga pupọ nitori ilana etching ti ara tun waye. Ni afikun, isare ti awọn ions nfa ibajẹ si dada wafer, eyiti o nilo isunmi gbona lati tunṣe.
Apa kemikali ti ilana etching ti pari nipasẹ awọn radicals ọfẹ ti n ṣe adaṣe pẹlu dada ati awọn ions ti ara kọlu ohun elo naa ki o ma ṣe tunṣe lori wafer tabi awọn odi iyẹwu, yago fun lasan isọdọtun bi ion beam etching. Nigbati o ba npọ si titẹ gaasi ni iyẹwu etching, ọna ọna ọfẹ ti awọn ions ti dinku, eyi ti o mu nọmba awọn ijamba laarin awọn ions ati awọn ohun elo gaasi, ati awọn ions ti wa ni tuka ni awọn itọnisọna oriṣiriṣi diẹ sii. Eyi ni abajade ti o kere si itọnisọna itọnisọna, ṣiṣe ilana etching diẹ sii kemikali.
Awọn profaili etch Anisotropic jẹ aṣeyọri nipasẹ gbigbe awọn odi ẹgbẹ kọja lakoko etching ohun alumọni. Atẹgun ti wa ni a ṣe sinu iyẹwu etching, nibiti o ti ṣe atunṣe pẹlu ohun alumọni etched lati ṣe silikoni oloro, eyiti o wa ni ipamọ lori awọn odi ẹgbẹ inaro. Nitori ion bombardment, awọn oxide Layer lori awọn agbegbe petele ti wa ni kuro, gbigba awọn ita etching ilana lati tesiwaju. Ọna yii le ṣakoso apẹrẹ ti profaili etch ati steepness ti awọn ẹgbẹ ẹgbẹ.
Oṣuwọn etch ni ipa nipasẹ awọn ifosiwewe bii titẹ, agbara monomono HF, gaasi ilana, iwọn sisan gaasi gangan ati iwọn otutu wafer, ati iwọn iyatọ rẹ wa ni isalẹ 15%. Anisotropy pọ si pẹlu agbara HF ti o pọ si, titẹ idinku ati idinku iwọn otutu. Iṣọkan ti ilana etching jẹ ipinnu nipasẹ gaasi, aye elekiturodu ati ohun elo elekiturodu. Ti o ba jẹ pe ijinna elekiturodu kere ju, pilasima ko le tuka ni deede, ti o yọrisi aiṣọkan. Alekun ijinna elekiturodu dinku oṣuwọn etching nitori pilasima ti pin ni iwọn didun nla. Erogba jẹ ohun elo elekiturodu ti o fẹ nitori pe o ṣe agbejade pilasima ti o ni aṣọ kan ki eti wafer yoo kan ni ọna kanna bi aarin wafer.
Gaasi ilana ṣe ipa pataki ninu yiyan ati oṣuwọn etching. Fun ohun alumọni ati ohun alumọni agbo, fluorine ati chlorine wa ni o kun lo lati se aseyori etching. Yiyan gaasi ti o yẹ, ṣiṣatunṣe ṣiṣan gaasi ati titẹ, ati ṣiṣakoso awọn aye miiran bii iwọn otutu ati agbara ninu ilana le ṣaṣeyọri oṣuwọn etch ti o fẹ, yiyan, ati isokan. Imudara ti awọn paramita wọnyi jẹ atunṣe nigbagbogbo fun awọn ohun elo ati awọn ohun elo oriṣiriṣi.
Ilana etching ko ni opin si gaasi kan, idapọ gaasi, tabi awọn ilana ilana ti o wa titi. Fun apẹẹrẹ, ohun elo afẹfẹ abinibi lori polysilicon le yọkuro ni akọkọ pẹlu iwọn etch giga ati yiyan yiyan kekere, lakoko ti polysilicon le jẹ etched nigbamii pẹlu yiyan yiyan ti o ga julọ si awọn ipele ti o wa labẹ.
—————————————————————————————————————————————————————— ———————————
Semicera le peselẹẹdi awọn ẹya ara, asọ / kosemi ro, ohun alumọni carbide awọn ẹya ara,CVD ohun alumọni carbide awọn ẹya ara,atiSiC / TaC ti a bo awọn ẹya ara pẹlu ni 30 ọjọ.
Ti o ba nifẹ si awọn ọja semikondokito loke,jọwọ ma ṣe ṣiyemeji lati kan si wa ni igba akọkọ.
Tẹli: + 86-13373889683
WhatsAPP: + 86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹsan-12-2024