Ọkan Akopọ
Ninu ilana iṣelọpọ iyika iṣọpọ, fọtolithography jẹ ilana mojuto ti o pinnu ipele isọpọ ti awọn iyika iṣọpọ. Iṣẹ ti ilana yii ni lati tan kaakiri ati gbe alaye ayaworan agbegbe lati iboju-boju (ti a tun pe ni iboju-boju) si sobusitireti ohun elo semikondokito.
Ilana ipilẹ ti ilana fọtolithography ni lati lo iṣesi fọtokemika ti photoresist ti a bo lori dada ti sobusitireti lati ṣe igbasilẹ ilana iyika lori iboju-boju, nitorinaa iyọrisi idi ti gbigbe ilana iyika iṣọpọ lati apẹrẹ si sobusitireti.
Awọn ipilẹ ilana ti photolithography:
Ni akọkọ, a lo photoresist lori dada sobusitireti nipa lilo ẹrọ ti a bo;
Lẹhinna, a lo ẹrọ fọtolithography lati ṣe afihan sobusitireti ti a bo pẹlu photoresist, ati pe a lo ẹrọ ifasilẹ fọtokemika lati ṣe igbasilẹ alaye apẹrẹ boju-boju ti o tan kaakiri nipasẹ ẹrọ fọtolithography, ipari gbigbe iṣootọ, gbigbe ati ẹda ti apẹrẹ iboju boju si sobusitireti;
Nikẹhin, a ti lo olupilẹṣẹ kan lati ṣe agbekalẹ sobusitireti ti o han lati yọkuro (tabi idaduro) photoresisist ti o gba ifesi photochemical lẹhin ifihan.
Ilana fọtolithography keji
Lati le gbe apẹrẹ iyika ti a ṣe apẹrẹ lori iboju-boju si wafer ohun alumọni, gbigbe gbọdọ wa ni akọkọ nipasẹ ilana ifihan, ati lẹhinna ilana ohun alumọni gbọdọ gba nipasẹ ilana etching.
Niwọn igba ti itanna ti agbegbe ilana fọtolithography nlo orisun ina ofeefee si eyiti awọn ohun elo ti o ni itara jẹ aibikita, o tun pe ni agbegbe ina ofeefee.
Photolithography ni akọkọ lo ninu ile-iṣẹ titẹ ati pe o jẹ imọ-ẹrọ akọkọ fun iṣelọpọ PCB akọkọ. Lati awọn ọdun 1950, fọtolithography ti di diẹdiẹ imọ-ẹrọ akọkọ fun gbigbe apẹẹrẹ ni iṣelọpọ IC.
Awọn atọka bọtini ti ilana lithography pẹlu ipinnu, ifamọ, iṣedede agbekọja, oṣuwọn abawọn, ati bẹbẹ lọ.
Ohun elo to ṣe pataki julọ ninu ilana fọtolithography jẹ photoresist, eyiti o jẹ ohun elo ti o ni itara. Niwọn igba ti ifamọ ti photoresist da lori gigun gigun ti orisun ina, awọn ohun elo fọtoresist oriṣiriṣi nilo fun awọn ilana fọtolithography gẹgẹbi laini g/i, 248nm KrF, ati 193nm ArF.
Ilana akọkọ ti ilana fọtolithography aṣoju pẹlu awọn igbesẹ marun:
-Base film igbaradi;
- Waye photoresist ati rirọ beki;
-Alignment, ifihan ati yan lẹhin-ifihan;
-Dagbasoke fiimu lile;
-Iwari idagbasoke.
(1)Igbaradi fiimu mimọ: o kun ninu ati gbígbẹ. Nitoripe eyikeyi contaminants yoo ṣe irẹwẹsi ifaramọ laarin photoresist ati wafer, mimọ ni kikun le mu ilọsiwaju pọ si laarin wafer ati photoresist.
(2)Photoresist bo: Eyi ni aṣeyọri nipasẹ yiyi wafer silikoni. O yatọ si photoresists beere o yatọ si bo ilana sile, pẹlu yiyi iyara, photoresist sisanra, ati otutu.
Yiyan rirọ: Beki le mu ilọsiwaju pọ si laarin photoresist ati wafer ohun alumọni, bakanna bi iṣọkan ti sisanra photoresist, eyiti o jẹ anfani fun iṣakoso deede ti awọn iwọn jiometirika ti ilana etching ti o tẹle.
(3)Titete ati ifihan: Iṣatunṣe ati ifihan jẹ awọn igbesẹ pataki julọ ninu ilana fọtolithography. Wọn tọka si aligning apẹrẹ boju-boju pẹlu apẹrẹ ti o wa tẹlẹ lori wafer (tabi apẹrẹ Layer iwaju), ati lẹhinna tan ina pẹlu ina kan pato. Agbara ina n mu awọn ohun elo ifasilẹ ṣiṣẹ ni photoresist, nitorinaa gbigbe ilana iboju-boju si photoresist.
Ohun elo ti a lo fun titete ati ifihan jẹ ẹrọ fọtolithography, eyiti o jẹ ohun elo ẹyọkan ti o gbowolori julọ julọ ni gbogbo ilana iṣelọpọ iyika iṣọpọ. Ipele imọ-ẹrọ ti ẹrọ fọtolithography duro fun ipele ilọsiwaju ti gbogbo laini iṣelọpọ.
Bidi-ifihan lẹhin-ifihan: tọka si ilana fifẹ kukuru lẹhin ifihan, eyiti o ni ipa ti o yatọ ju ni awọn olutọpa ultraviolet ti o jinlẹ ati awọn i-ila photoresists ti aṣa.
Fun jinlẹ ultraviolet photoresist, yan lẹhin-ifihan yoo yọ awọn paati aabo ni photoresist, gbigba photoresist lati tu ninu awọn Olùgbéejáde, ki ranse si-ifihan ni pataki;
Fun awọn photoresists i-line mora, yan lẹhin-ifihan le mu imudara ti photoresist jẹ ki o dinku awọn igbi ti o duro (awọn igbi ti o duro yoo ni ipa buburu lori morphology eti ti photoresist).
(4)Sese awọn lile fiimu: lilo Olùgbéejáde lati tu apakan ti o yanju ti photoresist (photoresist rere) lẹhin ifihan, ati ni deede ṣe afihan apẹrẹ boju-boju pẹlu apẹrẹ photoresist.
Awọn ipilẹ bọtini ti ilana idagbasoke pẹlu iwọn otutu idagbasoke ati akoko, iwọn lilo olupilẹṣẹ ati ifọkansi, mimọ, ati bẹbẹ lọ Nipa ṣiṣatunṣe awọn iwọn ti o yẹ ninu idagbasoke, iyatọ ninu oṣuwọn itu laarin awọn ẹya ti o han ati awọn ẹya airotẹlẹ ti photoresist le pọ si, nitorinaa gbigba ipa idagbasoke ti o fẹ.
Hardening tun ni a mọ bi yan lile, eyiti o jẹ ilana ti yiyọ iyọkuro ti o ku, olupilẹṣẹ, omi ati awọn paati aloku ti ko wulo ninu idagbasoke photoresist nipasẹ alapapo ati evaporating wọn, nitorinaa lati ni ilọsiwaju ifaramọ ti photoresist si sobusitireti ohun alumọni ati awọn etching resistance ti awọn photoresist.
Awọn iwọn otutu ti ilana lile yatọ da lori awọn oriṣiriṣi photoresists ati awọn ọna lile. Awọn ayika ile ni wipe photoresist Àpẹẹrẹ ko ni dibajẹ ati awọn photoresist yẹ ki o wa ni lile to.
(5)Ayẹwo idagbasoke: Eyi ni lati ṣayẹwo fun awọn abawọn ninu ilana photoresist lẹhin idagbasoke. Nigbagbogbo, imọ-ẹrọ idanimọ aworan ni a lo lati ṣe ọlọjẹ apẹrẹ chirún laifọwọyi lẹhin idagbasoke ati ṣe afiwe rẹ pẹlu apẹẹrẹ abawọn ti ko ni abawọn ti o ti fipamọ tẹlẹ. Ti a ba ri iyatọ eyikeyi, a kà a si alebu.
Ti nọmba awọn abawọn ba kọja iye kan, wafer silikoni ni idajọ lati kuna idanwo idagbasoke ati pe o le yọkuro tabi tun ṣiṣẹ bi o ṣe yẹ.
Ninu ilana iṣelọpọ iyika iṣọpọ, awọn ilana pupọ julọ jẹ aibikita, ati fọtolithography jẹ ọkan ninu awọn ilana diẹ pupọ ti o le tun ṣiṣẹ.
Meta photomasks ati photoresist ohun elo
3.1 Photomask
Photomask kan, ti a tun mọ ni iboju-boju fọtolithography, jẹ oluwa ti a lo ninu ilana fọtolithography ti iṣelọpọ wafer iyika iṣọpọ.
Ilana iṣelọpọ fotomask ni lati yi data ipilẹ atilẹba ti o nilo fun iṣelọpọ wafer ti a ṣe apẹrẹ nipasẹ awọn onimọ-ẹrọ apẹrẹ iyika iṣọpọ sinu ọna kika data ti o le ṣe idanimọ nipasẹ awọn olupilẹṣẹ ilana laser tabi ohun elo ifihan ina elekitironi nipasẹ sisẹ data iboju-boju, ki o le ṣafihan nipasẹ ohun elo ti o wa loke lori ohun elo sobusitireti fọtomask ti a bo pẹlu ohun elo ti o ni irọrun; lẹhinna o ti ni ilọsiwaju nipasẹ lẹsẹsẹ awọn ilana bii idagbasoke ati etching lati ṣatunṣe apẹrẹ lori ohun elo sobusitireti; nipari, o ti wa ni ayewo, tunše, ti mọtoto, ati film-laminated lati fẹlẹfẹlẹ kan ti boju ọja ati ki o jišẹ si awọn ese Circuit olupese fun lilo.
3.2 Photoresist
Photoresist, ti a tun mọ ni photoresist, jẹ ohun elo ti o ni irọrun fọto. Awọn paati fọtoyiya ti o wa ninu rẹ yoo gba awọn iyipada kemikali labẹ itanna ti ina, nitorinaa nfa awọn ayipada ninu oṣuwọn itusilẹ. Iṣẹ akọkọ rẹ ni lati gbe apẹrẹ lori iboju-boju si sobusitireti gẹgẹbi wafer.
Ilana iṣẹ ti photoresist: Ni akọkọ, photoresist ti wa ni ti a bo lori sobusitireti ati kọkọ-ndin lati yọ epo kuro;
Ni ẹẹkeji, iboju-boju naa ti farahan si ina, nfa awọn ohun elo fọtosensiti ni apakan ti o han lati faragba iṣesi kemikali;
Lẹhinna, a ṣe beki lẹhin-ifihan;
Lakotan, photoresist ti wa ni tituka ni apakan nipasẹ idagbasoke (fun photoresist rere, agbegbe ti o han ni tituka; fun photoresist odi, agbegbe ti a ko tii ti tuka), nitorinaa ṣe akiyesi gbigbe ti ilana iyika iṣọpọ lati iboju-boju si sobusitireti.
Awọn paati ti photoresist ni akọkọ pẹlu resini ti o ṣẹda fiimu, paati fọtoyiya, awọn afikun itọpa ati epo.
Lara wọn, resini ti o ṣẹda fiimu ni a lo lati pese awọn ohun-ini ẹrọ ati idena etching; Awọn paati photosensitive faragba kemikali ayipada labẹ ina, nfa ayipada ninu awọn itu oṣuwọn;
Awọn afikun itọpa pẹlu awọn awọ, awọn imudara viscosity, ati bẹbẹ lọ, eyiti a lo lati mu iṣẹ ṣiṣe ti photoresist dara si; epo ti wa ni lo lati tu awọn irinše ati ki o illa wọn boṣeyẹ.
Awọn photoresists lọwọlọwọ ni lilo jakejado ni a le pin si awọn olutọpa ibile ati awọn photoresists ti kemikali ni ibamu si ẹrọ ifasisi photochemical, ati pe o tun le pin si ultraviolet, ultraviolet ti o jinlẹ, ultraviolet to gaju, tan ina elekitironi, ina ion ati awọn photoresists X-ray ni ibamu si photosensitivity wefulenti.
Mẹrin Photolithography ẹrọ
Imọ-ẹrọ fọtolithography ti lọ nipasẹ ilana idagbasoke ti olubasọrọ / isunmọ lithography, lithography iṣiro opiti, lithography-igbesẹ-ati-tun-tun, lithography ọlọjẹ, lithography immersion, ati lithography EUV.
4.1 Olubasọrọ / Itosi Lithography Machine
Imọ-ẹrọ lithography ti olubasọrọ han ni awọn ọdun 1960 ati pe o jẹ lilo pupọ ni awọn ọdun 1970. O jẹ ọna lithography akọkọ ni akoko ti awọn iyika iṣọpọ iwọn kekere ati pe a lo ni akọkọ lati ṣe agbejade awọn iyika iṣọpọ pẹlu awọn iwọn ẹya ti o tobi ju 5μm.
Ninu ẹrọ olubasọrọ / isunmọtosi lithography, a maa gbe wafer sori ipo petele ti a ṣakoso pẹlu ọwọ ati tabili iṣẹ iyipo. Oṣiṣẹ naa nlo maikirosikopu aaye ọtọtọ lati ṣe akiyesi ipo boju-boju ati wafer nigbakanna, ati pẹlu ọwọ ṣakoso ipo ti tabili iṣẹ lati ṣe deede iboju-boju ati wafer. Lẹhin ti wafer ati iboju-boju ti wa ni ibamu, awọn mejeeji yoo tẹ papọ ki iboju-boju naa wa ni olubasọrọ taara pẹlu photoresist lori oju ti wafer.
Lẹhin yiyọkuro ibi-afẹde maikirosikopu, wafer ti a tẹ ati iboju-boju ti gbe lọ si tabili ifihan fun ifihan. Ina ti njade nipasẹ atupa makiuri ti wa ni ibajọpọ ati ni afiwe si iboju-boju nipasẹ lẹnsi kan. Niwọn igba ti iboju-boju naa wa ni olubasọrọ taara pẹlu Layer photoresist lori wafer, a ti gbe apẹrẹ boju-boju si Layer photoresist ni ipin ti 1: 1 lẹhin ifihan.
Ohun elo lithography olubasọrọ jẹ ohun elo lithography opitika ti o rọrun julọ ati ti ọrọ-aje, ati pe o le ṣaṣeyọri ifihan ti awọn ẹya iwọn ẹya-ara micron, nitorinaa o tun lo ni iṣelọpọ ọja kekere-kekere ati iwadii yàrá. Ni iṣelọpọ iyika iṣọpọ titobi nla, imọ-ẹrọ lithography isunmọtosi ni a ṣe agbekalẹ lati yago fun ilosoke ninu awọn idiyele lithography ti o fa nipasẹ olubasọrọ taara laarin iboju-boju ati wafer.
Lithography isunmọtosi jẹ lilo pupọ ni awọn ọdun 1970 lakoko akoko ti awọn iyika iṣọpọ iwọn kekere ati akoko ibẹrẹ ti awọn iyika iṣọpọ iwọn alabọde. Ko dabi lithography olubasọrọ, iboju-boju ni isunmọtosi lithography ko si ni ibatan taara pẹlu photoresist lori wafer, ṣugbọn aafo ti o kun pẹlu nitrogen ti wa ni osi. Boju-boju n ṣanfo lori nitrogen, ati iwọn aafo laarin iboju-boju ati wafer jẹ ipinnu nipasẹ titẹ nitrogen.
Niwọn igba ti ko si olubasọrọ taara laarin wafer ati iboju-boju ni lithography isunmọtosi, awọn abawọn ti a ṣafihan lakoko ilana lithography dinku, nitorinaa idinku isonu ti iboju-boju ati imudarasi ikore wafer. Ni isunmọtosi lithography, aafo laarin wafer ati boju-boju fi wafer si agbegbe Fresnel diffraction. Iwaju diffraction ṣe opin ilọsiwaju siwaju ti ipinnu ti ohun elo lithography isunmọ, nitorinaa imọ-ẹrọ yii dara julọ fun iṣelọpọ awọn iyika iṣọpọ pẹlu awọn iwọn ẹya ju 3μm.
4.2 Stepper ati Repeater
Awọn stepper jẹ ọkan ninu awọn ohun elo pataki julọ ninu itan-akọọlẹ ti wafer lithography, eyiti o ti ṣe igbega ilana lithography sub-micron sinu iṣelọpọ pupọ. Stepper nlo aaye ifihan aimi aṣoju ti 22mm × 22mm ati lẹnsi asọtẹlẹ opiti pẹlu ipin idinku ti 5: 1 tabi 4: 1 lati gbe apẹrẹ lori iboju-boju si wafer.
Ẹrọ lithography-igbesẹ-ati-tun jẹ gbogbogbo ti eto iha ifihan, eto ipin ipele iṣẹ-ṣiṣe, eto ipilẹ ipele iboju-boju kan, eto ipilẹ-idojukọ/ipele kan, eto ipilẹ titopọ, eto ipilẹ fireemu akọkọ kan, eto gbigbe gbigbe wafer, eto gbigbe boju-boju kan , ẹya ẹrọ itanna subsystem, ati ki o kan software subsystem.
Ilana iṣẹ aṣoju ti ẹrọ lithography-igbesẹ-ati-tun jẹ bi atẹle:
Ni akọkọ, wafer ti a bo pẹlu photoresist ni a gbe lọ si tabili iṣẹ-iṣẹ nipa lilo eto gbigbe gbigbe wafer, ati iboju-boju lati ṣafihan ti gbe lọ si tabili iboju-boju nipasẹ lilo eto gbigbe boju-boju;
Lẹhinna, eto naa nlo eto iṣojukọ / ipele ipele lati ṣe wiwọn giga-ọpọ-ojuami lori wafer lori ipele iṣẹ-ṣiṣe lati gba alaye gẹgẹbi iga ati igun tit ti dada ti wafer lati farahan, ki agbegbe ifihan ti wafer le nigbagbogbo ni iṣakoso laarin ijinle aifọwọyi ti ibi-afẹde lakoko ilana ifihan;Lẹhinna, eto naa nlo eto-apakan titete lati ṣe deede iboju-boju ati wafer ki lakoko ilana ifihan ipo deede ti aworan iboju-boju ati gbigbe apẹẹrẹ wafer nigbagbogbo wa laarin awọn ibeere agbekọja.
Nikẹhin, igbese-ati-ifihan ifihan ti gbogbo dada wafer ti pari ni ibamu si ọna ti a fun ni aṣẹ lati mọ iṣẹ gbigbe apẹẹrẹ.
Igbesẹ ti o tẹle ati ẹrọ lithography scanner da lori ilana iṣẹ ipilẹ ti o wa loke, imudarasi igbesẹ → ifihan si ọlọjẹ → ifihan, ati idojukọ / ipele → titete → ifihan lori awoṣe ipele-meji si wiwọn (idojukọ / ipele → titete) ati ọlọjẹ ifihan ni afiwe.
Ti a ṣe afiwe pẹlu ẹrọ lithography-igbesẹ-ati-ọlọjẹ, ẹrọ lithography igbese-ati-tun ko nilo lati ṣaṣeyọri iṣayẹwo iṣipopada amuṣiṣẹpọ ti iboju-boju ati wafer, ati pe ko nilo tabili iboju iboju iboju ati eto iṣakoso ọlọjẹ amuṣiṣẹpọ. Nitorinaa, eto naa rọrun diẹ, idiyele naa jẹ kekere, ati pe iṣẹ naa jẹ igbẹkẹle.
Lẹhin ti imọ-ẹrọ IC ti tẹ 0.25μm, ohun elo ti igbese-ati-tun-lithography bẹrẹ si kọ nitori awọn anfani ti lithography-igbesẹ-ati-scan ni wiwo iwọn aaye ifihan ati isokan ifihan. Lọwọlọwọ, ipele tuntun-ati-tun lithography ti a pese nipasẹ Nikon ni aaye ifihan aimi ti wiwo bi ti o tobi bi ti lithography-igbesẹ-ati-scan, ati pe o le ṣe ilana diẹ sii ju awọn wafers 200 fun wakati kan, pẹlu ṣiṣe iṣelọpọ giga ga julọ. Iru ẹrọ lithography yii jẹ lilo lọwọlọwọ fun iṣelọpọ ti awọn fẹlẹfẹlẹ IC ti kii ṣe pataki.
4.3 Stepper Scanner
Awọn ohun elo ti igbese-ati-scan lithography bẹrẹ ni awọn 1990s. Nipa tito leto awọn orisun ina ifihan ti o yatọ, imọ-ẹrọ-igbesẹ-ati-ṣayẹwo le ṣe atilẹyin awọn ọna imọ-ẹrọ ilana oriṣiriṣi, lati 365nm, 248nm, immersion 193nm si EUV lithography. Ko igbese-ati-tun lithography, awọn nikan-oko ifihan ti igbese-ati-scan lithography adopts ìmúdàgba Antivirus, ti o ni, awọn boju awo to pari awọn Antivirus ronu synchronously ojulumo si wafer; lẹhin ifihan aaye lọwọlọwọ ti pari, wafer ti gbe nipasẹ ipele iṣẹ-ṣiṣe ati tẹ si ipo aaye ọlọjẹ atẹle, ati ifihan tun tẹsiwaju; tun igbesẹ-ati-ọlọjẹ ifihan ni igba pupọ titi gbogbo awọn aaye ti gbogbo wafer yoo fi han.
Nipa tito leto awọn oriṣiriṣi awọn orisun ina (gẹgẹbi i-line, KrF, ArF), scanner-steper le ṣe atilẹyin fun gbogbo awọn apa imọ-ẹrọ ti ilana iwaju-opin semikondokito. Awọn ilana CMOS ti o da lori ohun alumọni aṣoju ti gba awọn aṣayẹwo-steper ni awọn iwọn nla lati ipade 0.18μm; awọn iwọn ultraviolet (EUV) lithography ero Lọwọlọwọ lo ninu ilana apa ni isalẹ 7nm tun lo stepper-wíwo. Lẹhin iyipada iyipada apa kan, stepper-scanner tun le ṣe atilẹyin iwadii ati idagbasoke ati iṣelọpọ ti ọpọlọpọ awọn ilana ti kii ṣe ohun alumọni gẹgẹbi MEMS, awọn ẹrọ agbara, ati awọn ẹrọ RF.
Awọn olupilẹṣẹ akọkọ ti awọn ẹrọ lithography asọtẹlẹ igbese-ati-scan pẹlu ASML (Netherlands), Nikon (Japan), Canon (Japan) ati SMEE (China). ASML ṣe ifilọlẹ jara TWINSCAN ti awọn ẹrọ lithography igbese-ati-scan ni ọdun 2001. O gba eto faaji eto-ipele meji kan, eyiti o le mu ilọsiwaju iwọn iṣelọpọ ti ohun elo naa ni imunadoko ati pe o ti di ẹrọ lithography giga julọ ti a lo julọ.
4.4 Immersion Lithography
O le rii lati inu agbekalẹ Rayleigh pe, nigbati ihalẹ ifihan ko yipada, ọna ti o munadoko lati mu ilọsiwaju si ipinnu aworan ni lati mu iwọn ilawọn ti eto aworan pọ si. Fun awọn ipinnu aworan ni isalẹ 45nm ati ti o ga julọ, ọna ifihan gbigbẹ ArF ko le ṣe deede awọn ibeere (nitori pe o ṣe atilẹyin ipinnu aworan ti o pọju ti 65nm), nitorinaa o jẹ dandan lati ṣafihan ọna lithography immersion kan. Ninu imọ-ẹrọ lithography ibile, alabọde laarin lẹnsi ati photoresist jẹ afẹfẹ, lakoko ti imọ-ẹrọ lithography immersion rọpo alabọde afẹfẹ pẹlu omi bibajẹ (nigbagbogbo omi ultrapure pẹlu itọka itọka ti 1.44).
Ni otitọ, imọ-ẹrọ lithography immersion nlo kikuru gigun ti orisun ina lẹhin ti ina kọja nipasẹ alabọde olomi lati mu ilọsiwaju naa dara, ati ipin kikuru jẹ atọka itọka ti alabọde olomi. Botilẹjẹpe ẹrọ lithography immersion jẹ iru igbesẹ-ati-scan lithography ẹrọ, ati pe ojutu eto ohun elo rẹ ko yipada, o jẹ iyipada ati imugboroja ti ẹrọ lithography igbesẹ-ati-scan ArF nitori iṣafihan awọn imọ-ẹrọ pataki ti o ni ibatan. si immersion.
Anfani ti lithography immersion ni pe, nitori ilosoke ninu iho nọmba ti eto, agbara ipinnu aworan ti ẹrọ lithography stepper-scanner ti ni ilọsiwaju, eyiti o le pade awọn ibeere ilana ti ipinnu aworan ni isalẹ 45nm.
Niwọn igba ti ẹrọ lithography immersion tun nlo orisun ina ArF, ilọsiwaju ti ilana naa jẹ iṣeduro, fifipamọ iye owo R&D ti orisun ina, ohun elo ati ilana. Lori ipilẹ yii, ni idapo pẹlu awọn aworan pupọ ati imọ-ẹrọ lithography iṣiro, ẹrọ lithography immersion le ṣee lo ni awọn apa ilana ti 22nm ati ni isalẹ. Ṣaaju ki o to fi ẹrọ lithography EUV ni ifowosi sinu iṣelọpọ pupọ, ẹrọ lithography immersion ti ni lilo pupọ ati pe o le pade awọn ibeere ilana ti node 7nm. Sibẹsibẹ, nitori ifihan ti omi immersion, iṣoro imọ-ẹrọ ti ohun elo funrararẹ ti pọ si ni pataki.
Awọn imọ-ẹrọ bọtini rẹ pẹlu ipese omi immersion ati imọ-ẹrọ imularada, imọ-ẹrọ itọju aaye omi immersion, idoti lithography immersion ati imọ-ẹrọ iṣakoso abawọn, idagbasoke ati itọju awọn lẹnsi asọtẹlẹ immersion ultra-large nomba, ati imọ-ẹrọ wiwa didara aworan labẹ awọn ipo immersion.
Lọwọlọwọ, ArFi ti iṣowo-igbesẹ-ati-scan awọn ẹrọ lithography ti pese ni akọkọ nipasẹ awọn ile-iṣẹ meji, eyun ASML ti Fiorino ati Nikon ti Japan. Lara wọn, iye owo ASML NXT1980 Di kan jẹ nipa 80 milionu awọn owo ilẹ yuroopu.
4.4 Awọn iwọn Ultraviolet Lithography Machine
Lati le ni ilọsiwaju ipinnu fọtolithography, gigun ifihan ti wa ni kuru siwaju lẹhin ti o ti gba orisun ina excimer, ati ina ultraviolet ti o pọju pẹlu iwọn gigun ti 10 si 14 nm ni a ṣe afihan bi orisun ina ifihan. Iwọn gigun ti ina ultraviolet ti o ga julọ jẹ kukuru pupọ, ati pe eto opiti opiti ti o le ṣee lo nigbagbogbo jẹ ti awọn olufihan fiimu multilayer bii Mo/Si tabi Mo/Be.
Lara wọn, awọn o tumq si o pọju reflectivity ti Mo / Si multilayer fiimu ni awọn wefulenti ibiti o ti 13.0 to 13.5nm jẹ nipa 70%, ati awọn tumq si o pọju reflectivity ti Mo / Be multilayer fiimu ni a kikuru wefulenti ti 11.1nm jẹ nipa 80%. Botilẹjẹpe ifarabalẹ ti Mo / Be multilayer film reflectors jẹ ti o ga, Be jẹ majele ti o ga, nitorinaa iwadii lori iru awọn ohun elo ni a kọ silẹ nigbati o dagbasoke imọ-ẹrọ lithography EUV.Imọ-ẹrọ lithography EUV lọwọlọwọ nlo fiimu multilayer Mo/Si, ati pe a tun pinnu iwọn gigun ifihan rẹ lati jẹ 13.5nm.
Orisun ina ultraviolet ti o ni iwọn akọkọ nlo imọ-ẹrọ pilasima ti a ṣe laser (LPP), eyiti o nlo awọn ina lesa ti o ga-giga lati ṣe itara pilasima Sn gbona-yo lati tan ina. Fun igba pipẹ, agbara ati wiwa ti orisun ina ti jẹ awọn igo ti o ni ihamọ ṣiṣe ti awọn ẹrọ lithography EUV. Nipasẹ ampilifaya agbara oscillator titunto si, imọ-ẹrọ pilasima asọtẹlẹ (PP) ati imọ-ẹrọ mimọ inu-ipo, agbara ati iduroṣinṣin ti awọn orisun ina EUV ti ni ilọsiwaju pupọ.
Ẹrọ lithography EUV jẹ ni akọkọ ti awọn ọna ṣiṣe bii orisun ina, ina, lẹnsi idi, ipele iṣẹ, ipele boju-boju, titete wafer, idojukọ / ipele, gbigbe iboju boju, gbigbe wafer, ati fireemu igbale. Lẹhin ti o ti kọja nipasẹ eto itanna ti o ni awọn olutọpa ti o ni ọpọlọpọ-Layer ti a bo, ina ultraviolet ti o ga julọ ti wa ni itanna lori iboju-boju-boju. Imọlẹ ti o han nipasẹ iboju-boju naa wọ inu eto aworan ifojusọna lapapọ opiti ti o ni lẹsẹsẹ ti awọn olufihan, ati nikẹhin aworan afihan ti iboju-boju ti jẹ iṣẹ akanṣe lori oju ti wafer ni agbegbe igbale.
Aaye aaye ifihan ati aaye aworan ti wiwo ti ẹrọ lithography EUV jẹ apẹrẹ-arc mejeeji, ati pe a lo ọna iwo-igbesẹ-igbesẹ lati ṣaṣeyọri ifihan wafer ni kikun lati mu iwọn iṣelọpọ pọ si. ASML ti ilọsiwaju julọ NXE jara EUV ẹrọ lithography nlo orisun ina ifihan pẹlu iwọn gigun ti 13.5nm, iboju-boju kan (6° isẹlẹ oblique), eto ipinnu ifojusọna idinku 4x kan pẹlu igbekalẹ 6-digi (NA=0.33), a aaye wiwo wiwo ti 26mm × 33mm, ati agbegbe ifihan igbale.
Ti a ṣe afiwe pẹlu awọn ẹrọ lithography immersion, ipinnu ifihan ẹyọkan ti awọn ẹrọ lithography EUV nipa lilo awọn orisun ina ultraviolet ti ni ilọsiwaju pupọ, eyiti o le ni imunadoko yago fun ilana eka ti o nilo fun fọtolithography pupọ lati ṣe awọn aworan ti o ga-giga. Ni lọwọlọwọ, ipinnu ifihan ẹyọkan ti ẹrọ lithography NXE 3400B pẹlu iho nọmba ti 0.33 de 13nm, ati pe oṣuwọn iṣelọpọ de awọn ege 125 / h.
Lati le ba awọn iwulo itẹsiwaju siwaju ti Ofin Moore, ni ọjọ iwaju, awọn ẹrọ lithography EUV pẹlu iho nọmba kan ti 0.5 yoo gba eto ifojusọna kan pẹlu idinamọ ina aarin, ni lilo magnification asymmetric ti awọn akoko 0.25/0.125, ati awọn aaye ifihan wiwo wiwo yoo dinku lati 26m × 33mm si 26mm × 16.5mm, ati ipinnu ifihan ẹyọkan le de isalẹ 8nm.
—————————————————————————————————————————————————————— ———————————
Semicera le peselẹẹdi awọn ẹya ara, asọ / kosemi ro, ohun alumọni carbide awọn ẹya ara, CVD ohun alumọni carbide awọn ẹya ara, atiSiC / TaC ti a bo awọn ẹya arapẹlu ilana semikondokito ni kikun ni awọn ọjọ 30.
Ti o ba nifẹ si awọn ọja semikondokito loke,jọwọ ma ṣe ṣiyemeji lati kan si wa ni igba akọkọ.
Tẹli: + 86-13373889683
WhatsAPP: + 86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹjọ-31-2024