Semicera káKasẹti waferjẹ paati pataki ninu ilana iṣelọpọ semikondokito, ti a ṣe lati dimu ni aabo ati gbe awọn wafers semikondokito elege. AwọnKasẹti wafern pese aabo alailẹgbẹ, ni idaniloju pe wafer kọọkan wa ni ominira lati awọn idoti ati ibajẹ ti ara lakoko mimu, ibi ipamọ, ati gbigbe.
Ti a ṣe pẹlu mimọ-giga, awọn ohun elo sooro kemikali, SemiceraKasẹti waferṣe iṣeduro awọn ipele ti o ga julọ ti mimọ ati agbara, pataki fun mimu iduroṣinṣin ti wafers ni gbogbo ipele ti iṣelọpọ. Imọ-ẹrọ deede ti awọn kasẹti wọnyi ngbanilaaye fun isọpọ ailopin pẹlu awọn ọna ṣiṣe adaṣe adaṣe, idinku eewu ti ibajẹ ati ibajẹ ẹrọ.
Apẹrẹ ti awọnKasẹti wafertun ṣe atilẹyin ṣiṣan afẹfẹ to dara julọ ati iṣakoso iwọn otutu, eyiti o ṣe pataki fun awọn ilana ti o nilo awọn ipo ayika kan pato. Boya lo ninu cleanrooms tabi nigba gbona processing, awọn SemiceraKasẹti waferjẹ iṣẹ-ṣiṣe lati pade awọn ibeere lile ti ile-iṣẹ semikondokito, pese igbẹkẹle ati iṣẹ ṣiṣe deede lati jẹki ṣiṣe iṣelọpọ ati didara ọja.
| Awọn nkan | Ṣiṣejade | Iwadi | Idiwon |
| Crystal paramita | |||
| Polytype | 4H | ||
| Dada Iṣalaye aṣiṣe | <11-20>4±0.15° | ||
| Itanna paramita | |||
| Dopant | n-iru Nitrogen | ||
| Resistivity | 0.015-0.025ohm · cm | ||
| Awọn paramita ẹrọ | |||
| Iwọn opin | 150.0 ± 0.2mm | ||
| Sisanra | 350± 25 μm | ||
| Iṣalaye alapin akọkọ | [1-100]±5° | ||
| Ipari alapin akọkọ | 47,5 ± 1.5mm | ||
| Atẹle alapin | Ko si | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm(5mm*5mm) | ≤5 μm(5mm*5mm) | ≤10 μm(5mm*5mm) |
| Teriba | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Ogun | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Iwaju (Si-oju) líle (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Ilana | |||
| iwuwo Micropipe | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Irin impurities | ≤5E10atomu/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Didara iwaju | |||
| Iwaju | Si | ||
| Ipari dada | Si-oju CMP | ||
| Awọn patikulu | ≤60ea/wafer (iwọn≥0.3μm) | NA | |
| Scratches | ≤5ea/mm. Akopọ ipari ≤Iwọn ila opin | Akopọ ipari≤2*Iwọn ila opin | NA |
| Peeli osan / pits / awọn abawọn / striations / dojuijako / idoti | Ko si | NA | |
| Awọn eerun eti / indents / ṣẹ egungun / hex farahan | Ko si | ||
| Awọn agbegbe Polytype | Ko si | Agbegbe akojo≤20% | Agbegbe akopọ≤30% |
| Iwaju lesa siṣamisi | Ko si | ||
| Didara Pada | |||
| Pada pari | C-oju CMP | ||
| Scratches | ≤5ea/mm, Akopọ ipari≤2*Iwọn ila opin | NA | |
| Awọn abawọn ẹhin (awọn eerun eti/awọn indents) | Ko si | ||
| Pada roughness | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Pada lesa siṣamisi | 1 mm (lati eti oke) | ||
| Eti | |||
| Eti | Chamfer | ||
| Iṣakojọpọ | |||
| Iṣakojọpọ | Epi-ṣetan pẹlu apoti igbale Olona-wafer kasẹti apoti | ||
| * Awọn akọsilẹ: "NA" tumọ si pe ko si ibeere Awọn nkan ti a ko mẹnuba le tọka si SEMI-STD. | |||
